研究開発

研究開発の考え方

取り組み方

当社のめっき/表面処理に関する研究開発業務を説明するならば「応用開発」の位置付けとなり、「新材料開発」とも解釈できます。
めっきとは、溶液中の金属イオンを電気化学分解で析出させる技術で、その中でも合金めっきとは2種類以上の異種金属を析出させる事で新しい皮膜(=新しい材料)が出来上がります。そして、この開発された新材料合金めっき皮膜の物性・特性を評価し,市場を調査・開拓する事でニーズを掴み、ニーズにお応えしてまいります。

特に当社研究開発室では、日本に残る製造商品群に狙いを定めており、そのためには「差別化」が重要と考え、効率化、品質の安定化、高度化、精密化、微細化などに特化することが必須になります。
そのためには市場のリサーチが重要であり、求められるニーズを把握することから始まります。ニーズにお応えするため、どの様な対策があり、提案できるかが重要です。そのために、めっき技術は勿論のこと、ライバル処理の動向などの「情報収集力」が競争に打ち勝つための大きな要素と考えます。
学会の発表案件、メーカーの開発した薬品など、いかにノウハウを盛り込んだ工法/プロセスを定めることが主業務となり、さらに、めっきの材料開発では、学会の情報を基に、新市場の動向などにより、めっき皮膜の新材料を提案し、市場を獲得することもあります。
最終的には自らが市場を見極め、事業化できるめっき皮膜を開発し、めっき生産ラインを立ち上げ、軌道に乗せ、製造部へ移行させるまでが研究開発室の仕事です。

下図の「プラン・ドゥー・チェック・アクション」の輪を回すことです。

クリーンルームのご紹介

クリーンルーム

めっき/表面処理の研究開発分野では更なる高度化が進み、高品質・高精度が強く要望され始めました。特にリソグラフィー+めっき技術のコラボで「LIGAプロセス」に進出するに当たり、市場要求品質はナノレベルの精度が要求されます。
このような背景の中、当社研究開発室ではそれらニーズにお応えするべく、最高水準のクリーンルーム(クリーン度は「クラス50」以下:一般半導体生産工場で「クラス1000」)を導入し、高レベルのクリーン度を実現。前処理からめっき処理まで全ての処理工程をクリーンルーム内で行う事でナノレベルの精度が確保する事が可能となります。